【盛美上海：近期推出的首款KrF工艺前道涂胶显影设备已交付中国头部逻辑晶圆厂客户】财联社9月23日电，盛美上海在互动平台表示，公司于7月28日宣布对其UltraCwb湿法清洗设备进行了重大升级。湿法刻蚀过程中质量传递效率的提高可防止副产物在晶圆微结构内积聚，从

涂胶 逻辑晶圆厂 首款krf krf工艺 涂胶显影 2025-09-23 19:55  6